「インテル・デジタル・エンタープライズ・アップデート・ミーティング」を開催し 記者向けにインテルのエンタープライズ分野における2007年の事業展望などについて 説明を行った。 インテルは2006年 新しいマイクロアーキテクチャ「 Coreマイクロアーキテクチャ 」製品を市場に大量に投入したが 今年はプロセス技術をアップデート 45nm プロセス技術による製品を投入していく予定だ。 プレゼンテーションを行った インテル マーケティング本部 本部長の阿部剛士氏は インテルは「プロセス技術とマイクロアーキテクチャを交互にアップデートしている」と述べ これをインテルでは『チクタクアプローチ』と呼んでいると説明した。 45nm 技術による動作サンプルはすでに動作しており 45mn プロセスで製造された Xeon が存在しているという。インテルの 45nm プロセス製品の開発コードは「 Penryn 」。Core 2 プロセッサファミリーと同様 Core マイクロアーキテクチャを採用する。 トランジスタの構造にも変更がなされ High-k（高誘電率）ゲート絶縁膜と金属ゲートを採用する。これまで多結晶シリコンが採用されていたゲートを金属にし 「ハフニウム」というチタン族元素をベースとした絶縁膜を採用したという。 45nm プロセス製品は 米国オレゴンの D1D アリゾナの ファブ32 で2007年後半から イスラエルに建造中のファブ28で2008年前半から ニューメキシコで改修中のファブ11Xで2008年後半から製造される予定だ。 ■関連記事 レノボ Windows Vista 搭載のデスクトップ PC を3月16日発売 日本 HP データベース向け UNIX 対応高信頼ブレードサーバー インテルなど FeliCa ケータイでの権利認証を PC にも適用する実験 日立 Intel Itanium 2 搭載のエントリーサーバーを3月5日販売開始 日立 Virtage で統合プラットフォームの仮想化環境を強化 デイリーリサーチバックナンバー コラム セミナー情報等はこちらから http://japan.internet.com/ デイリーでお届けする最新ITニュースメールの御購読申込はこちらから http://japan.internet.com/mail/newsletters.html